每日經(jīng)濟(jì)新聞 2024-04-09 17:32:43
每經(jīng)AI快訊,有投資者在投資者互動平臺提問:SAQP自對準(zhǔn)四重曝光對于曝光設(shè)備的套刻精度要求較低,但對于側(cè)墻刻蝕、原子層沉積、硬掩模沉積、掩膜圖像轉(zhuǎn)移等工藝的精度要求較高。公司的產(chǎn)品是否可以用于saqp技術(shù)的相關(guān)環(huán)節(jié)?
國林科技(300786.SZ)4月9日在投資者互動平臺表示,公司暫未涉及相關(guān)業(yè)務(wù)。
(記者 畢陸名)
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